XAFS分析装置

XAFS分析装置MIRRORCLE-CV4

MIRRORCLE-CV4は高分解能、高輝度でX線分析に最適な光源です!

1. 高輝度X線 1013 (photons/sec/mrad2/mm2/0.1%λ)
2. 高分解能小型ビームライン

光源サイズが10μm以下で、広い発散角を持つため、ΔE/E=5000の高いエネルギー分解能を実現します。

xafs

受託分析


分析概要

■ 概要

XAFS(X線吸収端微細構造)は、特定原子付近の構造状態を知ることができ、材料分析等に用いることができます。
EXAFSとNEXAFSの二種類の領域があり、EXAFSは、特定原子の周辺の動径分布を得ることができ、原子の種類や数を知ることができます。一方、NEXAFSは、特定原子の電子状態がわかり、価数などがわかります。

■ 仕様

測定エネルギー範囲 10keV 〜 25keV
分析可能原子

K殻:Ga (31) 〜 In (49)

L殻:Tl (81) 〜 U (92)

エネルギー分解能 (E/DE) 5,000
試料形状 固体薄膜
試料厚さ 数μm〜数十μm (試料による)
試料サイズ 1cm * 3cm程度 (要相談)

■   分析例

試料:Mo 10μm

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受託分析お問い合わせ窓口

〒525-0058
滋賀県草津市野路東7-3-46
滋賀県立テクノファクトリー7号棟
TEL: 077-566-6362   FAX: 077-566-6368
e-mail: i@photon-production.co.jp

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